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Journal Of Vacuum Science & Technology B

  • ISSN:1071-1023
  • ESSN:2166-2754
  • 国际标准简称:J VAC SCI TECHNOL B
  • 出版地区:UNITED STATES
  • 出版周期:Bimonthly
  • 研究方向:工程技术 - 工程:电子与电气
  • 出版年份:1991
  • 语言:English
  • 是否OA:未开放
  • 学科领域

    工程技术
  • 中科院分区

    4区
  • JCR分区

    Q4
  • IF影响因子

    1.511
  • 是否预警

期刊简介

Journal Title:Journal Of Vacuum Science & Technology B

Journal of Vacuum Science & Technology B emphasizes processing, measurement and phenomena associated with micrometer and nanometer structures and devices. Processing may include vacuum processing, plasma processing and microlithography among others, while measurement refers to a wide range of materials and device characterization methods for understanding the physics and chemistry of submicron and nanometer structures and devices.

中文简介

Journal of Vacuum Science & Technology B 强调与微米和纳米结构和器件相关的加工、测量和现象。处理可能包括真空处理、等离子体处理和微光刻等,而测量是指广泛的材料和器件表征方法,用于了解亚微米和纳米结构和器件的物理和化学。

期刊点评

Journal Of Vacuum Science & Technology B创刊于1991年,由A V S AMER INST PHYSICS出版商出版,收稿方向涵盖工程技术 - 工程:电子与电气全领域,此期刊水平偏中等偏靠后,在所属细分领域中专业影响力一般,过审相对较易,如果您文章质量佳,选择此期刊,发表机率较高。平均审稿速度约3.0个月,影响因子指数1.511,该期刊近期没有被列入国际期刊预警名单,广大学者值得一试。

中科院分区旧的升级版(数据版本:2020年12月旧的升级版)

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 4区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 4区 4区 4区

名词解释:
中科院分区也叫中科院JCR分区,基础版分为13个大类学科,然后按照各类期刊影响因子分别将每个类别分为四个区,影响因子5%为1区,6%-20%为2区,21%-50%为3区,其余为4区。

WOS分区(数据版本:2021-2022最新版)

WOS分区等级 JCR所属学科 分区
Q4 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY PHYSICS, APPLIED Q4 Q4 Q4

名词解释:
WOS即Web of Science,是全球获取学术信息的重要数据库,Web of Science包括自然科学、社会科学、艺术与人文领域的信息,来自全世界近9,000种最负盛名的高影响力研究期刊及12,000多种学术会议多学科内容。给期刊分区时会按照某一个学科领域划分,根据这一学科所有按照影响因子数值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影响因子值高的就会在高分区中,最后的划分结果分别是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表质量最高。

CiteScore分区(数据版本:2021-2022最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
3.00 0.400 0.704
学科 分区 排名 百分位
大类:Engineering 小类:Electrical and Electronic Engineering Q3 389 / 738

47%

大类:Engineering 小类:Instrumentation Q3 74 / 136

45%

大类:Engineering 小类:Materials Chemistry Q3 172 / 306

43%

大类:Engineering 小类:Surfaces, Coatings and Films Q3 76 / 131

42%

大类:Engineering 小类:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 162 / 271

40%

大类:Engineering 小类:Process Chemistry and Technology Q3 44 / 68

36%

名词解释:
CiteScore:衡量期刊所发表文献的平均受引用次数。
SJR:SCImago 期刊等级衡量经过加权后的期刊受引用次数。引用次数的加权值由施引期刊的学科领域和声望 (SJR) 决定。
SNIP:每篇文章中来源出版物的标准化影响将实际受引用情况对照期刊所属学科领域中预期的受引用情况进行衡量。

其他数据

是否OA开放访问: h-index: 年文章数:
未开放 -- 206
Gold OA文章占比: 2021-2022最新影响因子(数据来源于搜索引擎): 开源占比(OA被引用占比):
22.39% 1.4 0.21...
研究类文章占比:文章 ÷(文章 + 综述) 期刊收录: 中科院《国际期刊预警名单(试行)》名单:
99.35% SCI、SCIE

历年IF值(影响因子):

历年引文指标和发文量:

历年中科院JCR大类分区数据:

历年自引数据:

发文统计

近年引用统计:

期刊名称 数量
APPL PHYS LETT 314
J VAC SCI TECHNOL B 201
J APPL PHYS 198
PHYS REV B 108
J VAC SCI TECHNOL A 80
NANO LETT 77
THIN SOLID FILMS 66
APPL SURF SCI 62
MICROELECTRON ENG 62
NANOTECHNOLOGY 62

近年被引用统计:

期刊名称 数量
JPN J APPL PHYS 267
J APPL PHYS 249
J VAC SCI TECHNOL B 201
APPL SURF SCI 152
J VAC SCI TECHNOL A 141
ACS APPL MATER INTER 126
NANOTECHNOLOGY 121
APPL PHYS LETT 112
ECS J SOLID STATE SC 105
MATER RES EXPRESS 94

近年文章引用统计:

文章名称 数量
Review Article: Synthesis, prope... 21
Review Article: Atomic layer dep... 14
Tutorial on interpreting x-ray p... 9
Future prospects of fluoride bas... 7
Realizing ferroelectric Hf0.5Zr0... 7
High-density energy storage in S... 6
Minimal domain size necessary to... 6
Direct metal etch of ruthenium f... 6
Reduced twinning and surface rou... 6
Atomic force microscope integrat... 6

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