Journal Title:Journal Of Vacuum Science & Technology B
Journal of Vacuum Science & Technology B emphasizes processing, measurement and phenomena associated with micrometer and nanometer structures and devices. Processing may include vacuum processing, plasma processing and microlithography among others, while measurement refers to a wide range of materials and device characterization methods for understanding the physics and chemistry of submicron and nanometer structures and devices.
Journal of Vacuum Science & Technology B 强调与微米和纳米结构和器件相关的加工、测量和现象。处理可能包括真空处理、等离子体处理和微光刻等,而测量是指广泛的材料和器件表征方法,用于了解亚微米和纳米结构和器件的物理和化学。
Journal Of Vacuum Science & Technology B创刊于1991年,由A V S AMER INST PHYSICS出版商出版,收稿方向涵盖工程技术 - 工程:电子与电气全领域,此期刊水平偏中等偏靠后,在所属细分领域中专业影响力一般,过审相对较易,如果您文章质量佳,选择此期刊,发表机率较高。平均审稿速度约3.0个月,影响因子指数1.511,该期刊近期没有被列入国际期刊预警名单,广大学者值得一试。
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
工程技术 | 4区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 4区 4区 | 是 | 是 |
名词解释:
中科院分区也叫中科院JCR分区,基础版分为13个大类学科,然后按照各类期刊影响因子分别将每个类别分为四个区,影响因子5%为1区,6%-20%为2区,21%-50%为3区,其余为4区。
WOS分区等级 | JCR所属学科 | 分区 |
Q4 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY PHYSICS, APPLIED | Q4 Q4 Q4 |
名词解释:
WOS即Web of Science,是全球获取学术信息的重要数据库,Web of Science包括自然科学、社会科学、艺术与人文领域的信息,来自全世界近9,000种最负盛名的高影响力研究期刊及12,000多种学术会议多学科内容。给期刊分区时会按照某一个学科领域划分,根据这一学科所有按照影响因子数值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影响因子值高的就会在高分区中,最后的划分结果分别是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表质量最高。
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 | ||||||||||||||||||||||||||||
3.00 | 0.400 | 0.704 |
|
名词解释:
CiteScore:衡量期刊所发表文献的平均受引用次数。
SJR:SCImago 期刊等级衡量经过加权后的期刊受引用次数。引用次数的加权值由施引期刊的学科领域和声望 (SJR) 决定。
SNIP:每篇文章中来源出版物的标准化影响将实际受引用情况对照期刊所属学科领域中预期的受引用情况进行衡量。
是否OA开放访问: | h-index: | 年文章数: |
未开放 | -- | 206 |
Gold OA文章占比: | 2021-2022最新影响因子(数据来源于搜索引擎): | 开源占比(OA被引用占比): |
22.39% | 1.4 | 0.21... |
研究类文章占比:文章 ÷(文章 + 综述) | 期刊收录: | 中科院《国际期刊预警名单(试行)》名单: |
99.35% | SCI、SCIE | 否 |
历年IF值(影响因子):
历年引文指标和发文量:
历年中科院JCR大类分区数据:
历年自引数据:
近年引用统计:
期刊名称 | 数量 |
APPL PHYS LETT | 314 |
J VAC SCI TECHNOL B | 201 |
J APPL PHYS | 198 |
PHYS REV B | 108 |
J VAC SCI TECHNOL A | 80 |
NANO LETT | 77 |
THIN SOLID FILMS | 66 |
APPL SURF SCI | 62 |
MICROELECTRON ENG | 62 |
NANOTECHNOLOGY | 62 |
近年被引用统计:
期刊名称 | 数量 |
JPN J APPL PHYS | 267 |
J APPL PHYS | 249 |
J VAC SCI TECHNOL B | 201 |
APPL SURF SCI | 152 |
J VAC SCI TECHNOL A | 141 |
ACS APPL MATER INTER | 126 |
NANOTECHNOLOGY | 121 |
APPL PHYS LETT | 112 |
ECS J SOLID STATE SC | 105 |
MATER RES EXPRESS | 94 |
近年文章引用统计:
文章名称 | 数量 |
Review Article: Synthesis, prope... | 21 |
Review Article: Atomic layer dep... | 14 |
Tutorial on interpreting x-ray p... | 9 |
Future prospects of fluoride bas... | 7 |
Realizing ferroelectric Hf0.5Zr0... | 7 |
High-density energy storage in S... | 6 |
Minimal domain size necessary to... | 6 |
Direct metal etch of ruthenium f... | 6 |
Reduced twinning and surface rou... | 6 |
Atomic force microscope integrat... | 6 |
同类学科的其他优质期刊 | 影响因子 | 中科院分区 |
Soil Mechanics And Foundation Engineering | 0.500 | 4区 |
Chembioeng Reviews | 3.830 | 3区 |
Electrical Engineering In Japan | 0.250 | 4区 |
Journal Of Mechanical Design | 2.652 | 3区 |
Canadian Journal Of Electrical And Computer Engineering-revue Canadienne De Geni | 1.610 | 4区 |
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Journal Of Propulsion And Power | 1.940 | 3区 |
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