Journal Title:Journal Of Physics D-applied Physics
This journal is concerned with all aspects of applied physics research, from biophysics, magnetism, plasmas and semiconductors to the structure and properties of matter.
该杂志关注应用物理学研究的各个方面,从生物物理学、磁学、等离子体和半导体到物质的结构和性质。
Journal Of Physics D-applied Physics创刊于1970年,由IOP PUBLISHING LTD出版商出版,收稿方向涵盖物理 - 物理:应用全领域,此刊是中等级别的SCI期刊,所以过审相对来讲不是特别难,但是该刊专业认可度不错,仍然是一本值得选择的SCI期刊 。平均审稿速度约1.9个月,影响因子指数2.83,该期刊近期没有被列入国际期刊预警名单,广大学者值得一试。
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
物理与天体物理 | 3区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 3区 | 是 | 是 |
名词解释:
中科院分区也叫中科院JCR分区,基础版分为13个大类学科,然后按照各类期刊影响因子分别将每个类别分为四个区,影响因子5%为1区,6%-20%为2区,21%-50%为3区,其余为4区。
WOS分区等级 | JCR所属学科 | 分区 |
Q2 | PHYSICS, APPLIED | Q2 |
名词解释:
WOS即Web of Science,是全球获取学术信息的重要数据库,Web of Science包括自然科学、社会科学、艺术与人文领域的信息,来自全世界近9,000种最负盛名的高影响力研究期刊及12,000多种学术会议多学科内容。给期刊分区时会按照某一个学科领域划分,根据这一学科所有按照影响因子数值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影响因子值高的就会在高分区中,最后的划分结果分别是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表质量最高。
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 | ||||||||||||||||||||
5.90 | 0.689 | 0.963 |
|
名词解释:
CiteScore:衡量期刊所发表文献的平均受引用次数。
SJR:SCImago 期刊等级衡量经过加权后的期刊受引用次数。引用次数的加权值由施引期刊的学科领域和声望 (SJR) 决定。
SNIP:每篇文章中来源出版物的标准化影响将实际受引用情况对照期刊所属学科领域中预期的受引用情况进行衡量。
是否OA开放访问: | h-index: | 年文章数: |
未开放 | 172 | 1173 |
Gold OA文章占比: | 2021-2022最新影响因子(数据来源于搜索引擎): | 开源占比(OA被引用占比): |
9.17% | 3.4 | 0.06... |
研究类文章占比:文章 ÷(文章 + 综述) | 期刊收录: | 中科院《国际期刊预警名单(试行)》名单: |
91.66% | SCI、SCIE | 否 |
历年IF值(影响因子):
历年引文指标和发文量:
历年中科院JCR大类分区数据:
历年自引数据:
2019-2021国家/地区发文量统计:
国家/地区 | 数量 |
CHINA MAINLAND | 1453 |
USA | 494 |
GERMANY (FED REP GER) | 280 |
Japan | 255 |
India | 225 |
France | 198 |
England | 171 |
Russia | 153 |
South Korea | 124 |
Australia | 95 |
近年引用统计:
期刊名称 | 数量 |
J PHYS D APPL PHYS | 2388 |
APPL PHYS LETT | 2365 |
PHYS REV B | 1983 |
others | 1814 |
J APPL PHYS | 1700 |
PHYS REV LETT | 1316 |
NANO LETT | 757 |
PLASMA SOURCES SCI T | 745 |
SCI REP-UK | 727 |
SCIENCE | 661 |
近年被引用统计:
期刊名称 | 数量 |
J PHYS D APPL PHYS | 2388 |
others | 1963 |
PLASMA SOURCES SCI T | 1276 |
J APPL PHYS | 1102 |
MATER RES EXPRESS | 925 |
J MAGN MAGN MATER | 792 |
IEEE T PLASMA SCI | 759 |
J ALLOY COMPD | 697 |
PHYS PLASMAS | 665 |
PHYS REV B | 633 |
近年文章引用统计:
文章名称 | 数量 |
The 2018 GaN power electronics r... | 147 |
The kINPen-a review on physics a... | 57 |
The 2019 materials by design roa... | 55 |
Review of multi-layered magnetoe... | 40 |
Review of memristor devices in n... | 33 |
The 2018 biomembrane curvature a... | 33 |
A review on applications of magn... | 32 |
The 2019 surface acoustic waves ... | 30 |
Gallium nitride vertical power d... | 29 |
Mechanical properties of two-dim... | 28 |
同类学科的其他优质期刊 | 影响因子 | 中科院分区 |
Journal Of Molecular Spectroscopy | 1.229 | 4区 |
Progress In Quantum Electronics | 7.190 | 1区 |
International Journal Of Modern Physics A | 1.486 | 4区 |
Technical Physics | 0.603 | 4区 |
Acta Physica Polonica B | 0.651 | 4区 |
Apl Photonics | 4.864 | 1区 |
International Journal Of Modern Physics E | 1.390 | 4区 |
Optics And Laser Technology | 3.233 | 2区 |
Applied Physics Reviews | 17.054 | 1区 |
Open Systems & Information Dynamics | 1.960 | 4区 |
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